[发明专利]制造熔丝相变随机存取存储器的方法有效

专利信息
申请号: 200610075512.X 申请日: 2006-04-21
公开(公告)号: CN1881641A 公开(公告)日: 2006-12-20
发明(设计)人: 龙翔澜;陈士弘 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 钟胜光
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种制造一存储器元件的方法,包括在一基材上形成一电极层,其包含以前端工艺制造的电路。为形成每一相变存储器单元,电极层包含一第一电极、一第二电极及介于第一及第二电极间的绝缘部。为形成每一相变存储器单元,在电极层的顶表面、跨越绝缘部形成一存储器材料桥。藉由在该桥上形成图案化导电层,及在该第一电极及该图案化导电层间形成接触,以在该电极层上形成一存取结构。
搜索关键词: 制造 相变 随机存取存储器 方法
【主权项】:
1.一种制造一存储器元件的方法,包括:形成有一顶表面的一电极层,该电极层包含一第一电极及一第二电极及介于该第一及第二电极间的一绝缘部,其中该第一及第二电极及该绝缘部延伸至该电极层的该顶表面,且该绝缘部在该顶表面、该第一及该第二电极间具有一宽度;在该电极层的该顶表面上,形成跨越该绝缘部的一存储器材料桥,该桥包含有一第一端及一第二端的一存储器材料区块(patch),且在该第一端与该第一及第二电极接触,该桥在该第一及第二电极间、跨越该绝缘(insulting)部定义一电极间路径(inter-electrode path),且该电极间路径具有由该绝缘部的宽度定义的一路径长度,其中该存储器材料至少具有两固相。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610075512.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top