[发明专利]曝光装置无效
| 申请号： | 200610076560.0 | 申请日： | 2004-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1854886A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 早川利郎;松本研司;森本美范;齐藤贤一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03B27/00 | 分类号： | G03B27/00;G21K1/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置。在该曝光装置中，把GaN系列蓝色半导体激光器用作光源，其特征在于：构成为在把最接近所述蓝色半导体激光器的活性层的发光面的耦合透镜的孔径数设为NA，把来自所述发光面的光束扩散角度设为α时，满足NA·tan(α/2)≤2.0。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，把GaN系列蓝色半导体激光器用作光源，其特征在于：构成为在把最接近所述蓝色半导体激光器的活性层的发光面的耦合透镜的孔径数设为NA，把来自所述发光面的光束扩散角度设为α时，满足下述条件，NA·tan(α/2)≤2.0。
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