[发明专利]用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法无效
申请号: | 200610076998.9 | 申请日: | 2006-04-14 |
公开(公告)号: | CN1873052A | 公开(公告)日: | 2006-12-06 |
发明(设计)人: | 张鹏云 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/505 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 | 代理人: | 侯明远 |
地址: | 116024辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于低温等离子体化学领域。其特征是:对射频电源进行脉冲调制,就是使射频在一段时间内输出(射频工作),下一段时间内不输出(射频休止),二者交替进行,即射频工作方式是脉冲的;对射频电源可以一重调制,也可二重或多重调制;调节脉冲调制的频率和占空比,控制尘埃颗粒的大小,并在射频休止时间内将尘埃颗粒抽走;在这个阶段,可以选择适当的尘埃颗粒让其掺入制备的薄膜中。本发明的效果和益处是可控制等离子体中尘埃颗粒的大小,可对薄膜的性质进行适当的控制,可广泛用于沉积薄膜的各种领域,带来巨大的经济效益。 | ||
搜索关键词: | 脉冲 射频 等离子体 控制 薄膜 制备 中的 尘埃 颗粒 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法,其特征是:(1)对射频电源进行一重、二重或多重脉冲调制,脉冲调制频率为2Hz-20KHz,占空比为5-95%;(2)由脉冲调制后的射频电源、电极、稳定和控制放电的匹配网络、尘埃颗粒监视部分、用于沉积薄膜的工作介质和相应的监控部分组成一套系统;(3)在脉冲调制后的射频电源的作用下,控制尘埃颗粒大小。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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