[发明专利]光学元件的制造方法及其制造装置有效
| 申请号： | 200610077461.4 | 申请日： | 2006-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1854852A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 末益淳志 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/13363;G02B5/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;邹雪梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的制造方法是在具有透光性的基材(2)表面层叠含有功能性物质的功能性层(3)，根据功能性物质来改变透过功能性层(3)的光的状态，其特征在于，其具有：将含有功能性物质的功能性层组成液涂布于基材(2)的表面形成涂膜的涂布工序，对表面形成有涂膜的基材(2)进行烧结形成功能性层(3)的烧结工序，烧结工序中以覆盖功能性层(3)的方式形成功能性层被覆层，并且从功能性层被覆层的表层向着功能性层被覆层和功能性层(3)的界面的方向形成使透过功能性层(3)的光扩散的光扩散层，所述被覆层除去工序中，除去通过烧结工序形成的功能性层被覆层中的至少光扩散层。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.光学元件的制造方法，该方法是在具有透光性的基材的表面上层叠含有功能性物质的功能性层，使透过功能性层的光的状态随功能性物质而改变，其特征在于，该方法包括：将含有功能性物质的功能性层组成液涂布于基材的表面形成涂膜的涂布工序；和对表面形成了涂膜的基材进行烧结以形成功能性层的烧结工序；在烧结工序中，以覆盖功能性层的方式形成功能性层被覆层，并且，从功能性层被覆层的表层向着功能性层被覆层和功能性层的界面的方向形成使透过功能性层的光扩散的光扩散层，具有除去烧结工序所形成的功能性层被覆层中的至少光扩散层的被覆层除去工序。
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