[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200610077845.6 | 申请日： | 2006-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1858655A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | A·斯特拉伊贾 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;杨松龄 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，使用一定体积的第二液体将第一液体限制在投影系统和基底之间的空间中。在一个实施例中，第一液体与第二液体基本上是不可混合的，并且第一液体可以是环烷，例如环辛烷、萘烷、双环已烷、外型四氢双环戊二烯以及环己胺，其它高指数碳氢化合物，全氟聚醚，例如全氟－N－甲基吗啡啉以及全氟E2，全氟烷烃，例如全氟己烷、以及含氢氟醚；第二液体可以是水。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：配置成将带图案的辐射束投影到基底的目标部分上的投影系统；配置成将第一液体供应到投影系统和基底之间的空间的液体供应系统，该液体限制系统包括：基本上围绕所述空间并适于将液体限制在所述空间周围的体积内的液体限制结构；设置成将第一液体供应到所述空间中的第一液体供应装置；设置成将第二液体供应到所述体积内的第二液体供应装置。
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