[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610077848.X | 申请日： | 2006-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1858656A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | B·斯特利夫科克;S·N·L·董德斯;R·F·德格拉夫;C·A·霍根大姆;M·H·A·李恩德斯;J·J·S·M·马坦斯;M·里庞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和/或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其配置成将所需图案的图像透过液体投影到保持于基底台的基底上，在基底台表面中存在位于基底台和基底的外缘之间或者基底台和安装于基底台上的其它元件之间的间隙，在正常使用时，液体与所述间隙接触，所述间隙设有气泡保持装置，该气泡保持装置配置成保持可能在间隙中产生的任何气泡。
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