[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200610077849.4 | 申请日： | 2006-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1858657A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | B·斯特里夫科克;S·N·L·唐德斯;R·F·德格拉夫;C·A·霍根达姆;H·詹森;M·H·A·李德斯;P·M·M·烈布雷格特斯;J·J·S·M·马坦斯;J·－G·C·范德图恩;M·里庞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种浸没式光刻装置，设有至少部分地限定用于容纳位于投影系统和基底之间的液体的空间的液体限制结构。为了减小基底边缘在成像时的交叉，在基本平行于基底的平面内所述空间的截面面积应制成尽可能小。最小的理论尺寸是投影系统成像的目标部分的尺寸。在一个实施例中，投影系统的最后元件的形状还变成在基本平行于基底的平面内具有与目标部分相似的尺寸和/或形状。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：设置成保持基底的基体台；设置成将带图案的辐射束投影到基底的目标部分的投影系统，该投影系统具有紧靠基底的元件，所述元件在基本平行于所述基底的平面内具有直线形的截面形状。
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