[发明专利]布图图案形成装置及布图图案形成装置的制造方法无效
| 申请号： | 200610078521.4 | 申请日： | 2006-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1857920A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | 奥村胜弥;矢部学;小八木康幸;原田宗生;清元智文 | 申请（专利权）人： | 奥克泰克有限公司;大日本网目版制造株式会社;东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16;H01L21/768;B41J2/14;B41J2/175 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高精度且低成本的布图图案形成装置。该装置以(100)晶向的单晶硅为母材，通过光刻工序形成具有斜面部和布图材料导引槽的梳齿部。以与形成导引槽相同的工序形成该梳齿部的各个梳齿共用的储存布图材料的储液部。在形成斜面部时，可以通过进行湿式各向异性蚀刻，利用基于晶向的蚀刻速度之差来相对于晶向(100)高精度且容易地形成具有(111)晶向的斜面部，此外还可以通过各向异性干蚀刻来形成槽部，从而以高精度形成直到斜面部的、具有垂直侧壁的布图材料导引槽。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种布图图案形成装置，包括：具有第一和第二主表面的单晶衬底；从所述单晶衬底的第一主表面开始在预定方向上形成的斜面部；以及从所述单晶衬底的第二主表面开始以预定间距形成为梳齿状的多个槽区域，其中所述槽区域具有到达所述斜面部的深度。
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