[发明专利]用于X射线衍射分析的方法和装置

摘要

本发明涉及用于X射线衍射分析的方法和装置。一种用于利用包括X射线辐射源和检测器的装置对样品进行透射模式X射线衍射分析的方法，该方法包括：(a)将待分析样品放置在基底上；(b)产生带形X射线射束，该射束的中心部分沿平面延伸；(c)将基底从而将样品定位在初始位置，其中所述样品位于射束的路径中，并且射束照射样品的薄片；(d)使基底相对于上述初始位置作如下运动：(d.1)使基底从而使样品绕转动轴线转动，该转动轴线垂直于基底，该转动覆盖预定的转动角，以及(d.2)使基底从而使样品绕倾斜轴线在倾斜角的范围内倾斜；以及(e)在使基底作上述运动的时段期间使用检测器检测透射穿过样品和被样品衍射的X射线辐射。

主权项

1.一种用于利用包括X射线辐射源(21)和检测器(22)的装置对样品进行透射模式X射线衍射分析的方法，该X射线辐射源提供用于照射所述样品的X射线辐射，该检测器用于检测透射穿过所述样品和被所述样品衍射的X射线辐射，所述方法包括：(a)将待分析样品放置在适合于接纳并保持所述样品的基底(19)上，所述基底对于X射线辐射是可透过的，(b)利用X射线辐射源(21)产生带形X射线射束(24)，该射束的中心部分沿平面延伸，(c)将所述基底从而将所述样品定位在初始位置，其中，所述样品位于所述射束(24)的路径中，并且所述射束(24)照射所述样品的薄片(27)，(d)使基底(19)相对于上述初始位置作如下运动：(d.1)使所述基底(19)从而使所述样品绕转动轴线(29)转动，该转动轴线垂直于所述基底，所述转动覆盖预定的转动角，以及(d.2)使所述基底(19)从而使所述样品绕倾斜轴线(28)在倾斜角(T)的范围内倾斜，该倾斜角定义为所述转动轴线(29)与所述射束(24)的中心部分延伸通过其中的所述平面形成的夹角，所述倾斜轴线位于所述射束(24)的中心部分延伸通过其中的所述平面并垂直于所述转动轴线(29)，所述倾斜覆盖倾斜角(T)，该倾斜角在第一预定值和第二预定值之间变化，以及(e)在基底(19)作上述运动的时段期间使用所述检测器(22)检测透射穿过所述样品和被所述样品衍射的X射线辐射。