[发明专利]光学系统以及光学显微镜无效

专利信息
申请号: 200610079133.8 申请日: 2006-05-10
公开(公告)号: CN1862309A 公开(公告)日: 2006-11-15
发明(设计)人: 田名纲健雄;杉山由美子 申请(专利权)人: 横河电机株式会社
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 顾红霞;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开一种将入射光的强度分布校正为平坦的强度分布的光学系统,该光学系统包括:第一透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有正折射率;第二透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有负折射率,在入射光方向上第二透镜组位于第一透镜组之后;以及第三透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有正折射率,在入射光方向上第三透镜组位于第二透镜组之后。在该光学系统中,使得入射光准直,并且利用第一透镜组的球面像差、第二透镜组的球面像差和第三透镜组的球面像差将入射光的强度分布校正为平坦的强度分布。
搜索关键词: 光学系统 以及 光学 显微镜
【主权项】:
1.一种将入射光的强度分布校正为平坦的强度分布的光学系统,所述光学系统包括:第一透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有正折射率;第二透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有负折射率,在入射光方向上所述第二透镜组位于所述第一透镜组之后;以及第三透镜组,其包括至少一个透镜,并且具有正折射率,在入射光方向上所述第三透镜组位于所述第二透镜组之后。
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