[发明专利]成像装置分析系统和成像装置分析方法无效

专利信息
申请号: 200610079370.4 申请日: 2006-02-08
公开(公告)号: CN1856121A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: T·L·科勒;S·D·施特克尔;J·M·迪卡洛;L·格曼;G·J·迪斯波托;E·蒙特戈梅里;C·L·米勒 申请(专利权)人: 惠普开发有限公司
主分类号: H04N17/00 分类号: H04N17/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本公开说明了成像装置分析系统100和成像装置分析方法。根据一个实施例,成像装置分析系统100包括光源154,和与光源154耦合的、且配置成控制光源154以光学方式将光116传送到成像装置114的处理电路,其中,光源154配置成为分析成像装置114的至少一个成像部件而输出光116,而成像装置114配置成响应接收的光116产生图像,且上述处理电路进一步配置成通过成像装置114访问成像装置114产生的图像数据和处理图像数据114来分析至少一个成像部件的运行状况,而上述图像数据是成像装置114响应对来自光源154的光116的接收而产生的。
搜索关键词: 成像 装置 分析 系统 方法
【主权项】:
1.一种成像装置分析系统100,包括:光源154,配置成输出用于分析成像装置114的至少一个成像部件的光116,其中,所述成像装置114配置成响应所接收的光116而产生图像;和与所述光源154耦合的处理电路,配置成控制所述光源154以光学方式将所述光116传送到所述成像装置114,其中,所述处理电路还配置成访问图像数据,所述图像数据由所述成像装置114响应它对来自所述光源154的光116的接收而产生,并处理所述图像数据以分析至少一个成像部件的运行状况。
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