[发明专利]多层反射镜光谱纯滤光片、光刻设备以及装置制造方法有效
申请号: | 200610079943.3 | 申请日: | 2006-04-26 |
公开(公告)号: | CN1854771A | 公开(公告)日: | 2006-11-01 |
发明(设计)人: | M·M·J·W·范赫尔彭;L·P·巴克;V·Y·巴尼纳;D·J·W·克伦德 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08;G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯;梁永 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层,其比如可用于EUV光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层,但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此,具有下列配置的多层反射镜是可能的:多层反射镜/第一光谱纯度增强层;多层反射镜/中间层/第一光谱纯度增强层;以及多层反射镜/第二光谱纯度增强层/中间层/第一光谱纯度增强层。可提高正入射辐射的光谱纯度,以使DUV辐射的减少相对EUV辐射更强。 | ||
搜索关键词: | 多层 反射 光谱 滤光 光刻 设备 以及 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多层反射镜,包含:多层叠层,所述多层叠层包含具有多层叠层顶部层的多个交替层以及被布置在所述多层叠层上的光谱滤光片顶部层,所述光谱滤光片顶部层包含第一光谱纯度增强层,所述第一光谱纯度增强层包含第一材料并具有第一层厚d1;中间层,所述中间层包含第二材料并具有第二层厚d2;以及第二光谱纯度增强层,所述第二光谱纯度增强层包含第三材料并具有第三层厚d3,所述第二光谱纯度增强层被布置在所述多层叠层顶部层上,其中所述第一材料选自SiN、Si3N4、SiO2、ZnS、Te、金刚石、CsI、Se、SiC、非晶碳、MgF2、CaF2、TiO2、Ge、PbF2、ZrO2、BaTiO3、LiF或NaF,所述第三材料选自Si3N4、SiO2、ZnS、Te、金刚石、CsI、Se、SiC、非晶碳、MgF2、CaF2、TiO2、Ge、PbF2、ZrO2、BaTiO3、LiF或NaF,所述第二材料包含与所述第一和第三材料不同的材料,并且d1+d2+d3具有介于2.5和40nm之间的厚度。
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