[发明专利]非易失性半导体存储器件无效
申请号: | 200610080254.4 | 申请日: | 2006-05-15 |
公开(公告)号: | CN1905066A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | 森俊树 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11C11/56 | 分类号: | G11C11/56;G11C16/04 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 季向冈 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种非易失性半导体存储器件。在2个基准单元中的1个基准单元的电荷积累区域积累电荷,使其成为与电流最小的存储单元特性等效的状态。另外,在另一个基准单元的电荷积累区域积累电荷,使其成为与电流最大的存储单元特性等效的状态。利用电流平均化电路来平均从这些基准单元所输出的各电流,作为基准电流(R_REF1)输出。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
1.一种非易失性半导体存储器件,其特征在于,包括:存储单元,包括在栅极绝缘膜中具有电荷积累层的晶体管,在上述电荷积累层内互不相同的第1电荷积累区域和第2电荷积累区域积累电荷,与所积累的电荷水平相对应地在各电荷积累区域存储信息;多个读出用基准单元,与上述存储单元具有相同结构,包括第1读出用基准单元和第2读出用基准单元;读出用基准单元设定装置,将上述第1读出用基准单元中的上述第1电荷积累区域设定为积累有第1电荷量的第1状态,将上述第2电荷积累区域设定为积累有第2电荷量的第2状态,并将上述第2读出用基准单元中的上述第1电荷积累区域设定为积累有比上述第1电荷量多的第3电荷量的第3状态,将上述第2读出用基准单元中的上述第2电荷积累区域设定为积累有比上述第2电荷量少的第4电荷量的第4状态;以及基准信息输出装置,将第1信息与第2信息的复合信息,作为从上述存储单元读出信息时的基准的读出用基准进行输出,其中,所述第1信息是上述第1读出用基准单元的上述第1电荷积累区域的积累信息,所述第2信息是上述第2读出用基准单元的上述第1电荷积累区域的积累信息。
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