[发明专利]周缘曝光装置、涂敷显影装置及周缘曝光方法有效
| 申请号： | 200610080318.0 | 申请日： | 2006-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1862387A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 岩下泰治;下村一郎 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明中包括：第1光路形成部件和第2光路形成部件，各自的入口侧配置在来自光源的光电子束的通路内；第1放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且基板的周缘部位于来自第1光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第2放置台，基板的周缘部位于来自第2光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；遮光机构，用于遮挡来自第1和第2光路形成部件的光的照射。由于可例如可采用共通的光源对第1放置台和第2放置台上的基板进行周缘曝光，所以具有较强的处理能力，并且能够抑制装置的大型化。 | ||
| 搜索关键词： | 周缘 曝光 装置 显影 方法 | ||
【主权项】：
1.一种周缘曝光装置，通过曝光用的光源对形成有感光性薄膜的基板的周缘部进行曝光，其特征是，包括：第1光路形成部件和第2光路形成部件，各自的入口侧配置在来自所述光源的光电子束内；第1放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第1光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第2放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第2光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；遮光机构，用于遮挡来自第1光路形成部件和第2光路形成部件的光的照射。
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