[发明专利]用于装入微镜阵列的分段的方法无效
申请号: | 200610080361.7 | 申请日: | 2002-09-09 |
公开(公告)号: | CN1854890A | 公开(公告)日: | 2006-11-01 |
发明(设计)人: | 托布乔恩·桑德斯特罗姆;马丁·奥尔森;珀·埃尔姆福斯;斯蒂芬·古斯塔夫森 | 申请(专利权)人: | 麦克罗尼克激光系统公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 黄小临;王志森 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 本发明涉及使用子像素分辨率来呈现高精度图像,可用适用于产生网线板和大面积掩模、直接写入图形和查看网线板或其他图形的工件。本发明的多个方面可以应用到SLM和扫描技术。本发明包括一种调制微镜阵列以建立和加强图像的方法。本申请公开了重叠区、保护区的使用、将多边形移动和重新定大小、使用两个分辨率级,表示区域、定义边、定位边和角。 | ||
搜索关键词: | 用于 装入 阵列 分段 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于装入微镜阵列的分段的方法,包括:利用并行操作的多个呈现处理器来呈现多个多边形;向缓冲器写入对应于被呈现的多边形的数字值,所述缓冲器具有对应于多个呈现处理器的多个区域,并且具有多个分段;从缓冲器分段之一向具有模拟输出的一组数模转换器重复写入数字值;并且在微镜阵列分段之间重复地转换模拟输出。
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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