[发明专利]超分子插层2－苯基苯并咪唑－5－磺酸及其制备方法和用途

摘要

本发明提供了一种超分子插层2－苯基苯并咪唑－5－磺酸及其制备方法与用途。本发明利用水滑石具有可插层组装的特点，在水滑石层间插入2－苯基苯并咪唑－5－磺酸(2－Phenylbenzimidazole－5－Sulfonic Acid，简写PSA)的阴离子(酸根)，制备层间客体为PSA阴离子(C₁₃H₁₀N₂O₃S)－的超分子插层结构材料。该超分子插层结构材料的化学组成式为[M²⁺_1－xB>x (OH)₂](C₁₃H₁₀N₂O₃S)－SUB>O，对230－340nm波段紫外光的吸收率大于80％。该超分子插层结构材料的紫外光吸收范围及吸收能力与插层客体PSA相比有显著的提高，并且其层间物种的明显分解温度在520℃左右，与插层客体PSA相比热稳定性也有所提高。该超分子插层结构材料可作为紫外光吸收剂用作如聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯氰－丁二烯－苯乙烯共聚物(ABS)以及聚氨酯等易光氧降解树脂的耐光老化添加剂。

主权项

1.一种超分子插层2-苯基苯并咪唑-5-磺酸，化学组成式为：[M2+1-xM3+x(OH)2](C13H10N2O3S)-x·mH2O 其中0.2≤x≤0.33，m为层间结晶水分子数，0≤m≤2；M2+、M3+分别代表层板二价、三价金属离子，M2+是Mg2+、Ni2+、Zn2+、Fe2+或Cu2+中的任何一种，M3+是Al3+、Co3+、Fe3+、Ti3+或Ga3+中的任何一种，M2+/M3+摩尔比为2-4∶1；该超分子插层结构紫外光吸收剂对230-340nm波段紫外光吸收率大于80％，最大吸收率87％出现在280nm处，层间有机物种的明显分解温度在520℃左右。