[发明专利]薄膜的清除方法及其设备无效
| 申请号： | 200610080908.3 | 申请日： | 2006-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN101078891A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 张加强;吴清吉;蔡陈德;林春宏 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种薄膜的清除方法及其设备，该薄膜的清除方法及其设备清除一基板上的薄膜，首先在该基片上方设置一电浆产生器以及一抽气装置，接着该电浆产生器将电浆束斜射到该薄膜上，该抽气装置位于该电浆产生器射出电浆对应的反射路径上，吸取薄膜经电浆反应后，未反应完全产生的副产物，保持该基片表面的清洁，改善大气状态下使用电浆进行表面清除会产生副产物沉积的缺点。本发明薄膜的清除方法及其设备清除电浆反应的副产物、提高了液晶面板的优良率、节省液晶面板的制造成本，可完整清除液晶面板表面的光阻。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 清除 方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜的清除方法，清除一基片上的薄膜，其特征在于，该薄膜的清除方法包括：在该基片上方设置一电浆产生器以及一抽气装置；以及调整该电浆产生器，使其射出的电浆束斜射在该薄膜上，该抽气装置设在对应该电浆束的反射路径上，吸除该薄膜经电浆反应后，未反应完全而产生的副产物，保持该基片表面的清洁。
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