[发明专利]一种提高Bi-2223带材临界电流密度的方法无效

专利信息
申请号: 200610081162.8 申请日: 2006-05-23
公开(公告)号: CN1885443A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 阿木;韩征和;顾晨 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01B12/00 分类号: H01B12/00;H01B13/00;C25D7/00;C25D5/00;C25D3/12
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 李光松
地址: 100084北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于高温超导材料领域的一种提高Bi-2223带材临界电流的方法。具体是先将带材选定区域的绝缘漆用较细的砂纸仔细打磨掉,并把带材表面清洗干净;选用直流稳压电源作为电镀电源,电源输出电压3V进行电镀,通过改变电镀时间改变复合导线表面镀层厚度,得到表面有电镀铁磁体材料的Bi-2223带材,因此有效控制交流损耗。可以实际应用于Bi系高温超导带材的大规模生产。
搜索关键词: 一种 提高 bi 2223 临界 电流密度 方法
【主权项】:
1.一种提高Bi-2223带材临界电流的方法,其特征在于,在Bi-2223带材表面电镀铁磁体材料,即先选定带材边缘部分,后用较细的砂纸将选定带材边缘部分的绝缘漆仔细打磨掉,并把带材表面清洗干净;选用直流稳压电源作为电镀电源,电源输出电压3V,通过每根带材的电流30mA,通过改变电镀时间控制复合导线表面镀层厚度;电镀时间选取为30~180分钟,得到表面有电镀铁磁体材料的Bi-2223带材;其中电镀铁磁体材料的电镀液按体积比为50wt%的NiSO4∶50wt%的NiCl2∶3g/100ml的HBO3=1∶1∶1配成。
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