[发明专利]均匀涂布基片的方法

摘要

一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。

主权项

1.一种含溶剂溶液涂布基片表面的涂布装置，包括：封闭式箱体；可旋转卡盘，其安装在箱体内用于支撑基片；沉积装置，其将含溶剂溶液沉积到箱体内的基片表面上；控制气体供应装置，其包括通过入口与箱体相连的控制气体供应管道；含溶剂气体供应管道以及与控制气体供应管道相连接的无溶剂气体供应管道；安装于含溶剂气体供应管道内的气体控制阀以及安装于无溶剂的气体供应管道内的气体控制阀，其用于控制气体流动的速度，该气体从含溶剂气体供应管道和无溶剂气体供应管道中流出，流入控制气体管道，以控制控制气体中的溶剂蒸汽的成分；与箱体相连的排出装置，用于从箱体中排出控制气体以及任何溶剂蒸汽和颗粒杂质；其中，可以提供控制气体中的溶剂蒸汽的理想浓度，以控制来自聚合物溶液的溶剂的蒸发速度，该溶剂蒸汽的理想浓度由含溶剂蒸汽的气体供应管道和无溶剂气体供应管道中的至少一个供应管道中的气体控制阀调整，以提供具有所述理想浓度的含溶剂气体和无溶剂气体之间的比率。