[发明专利]显示设备基板和制造方法以及显示设备无效
| 申请号： | 200610084267.9 | 申请日： | 2006-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN1873912A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 徐宗铉;全亨一 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/02;H01L21/28;H01L21/82;H01L21/84;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于显示设备的基板，一种制造该基板的方法和具有该基板的显示设备。所述基板包括憎水体、亲水体部分和亲水薄膜。亲水体部分形成于憎水体上且亲水薄膜形成于亲水体部分上以形成显示元件。在所述基板的制造方法中，将憎水裸基板设置于等离子体室中。通过将憎水裸基板暴露于在等离子体室中产生的等离子体，亲水体部分可以形成于憎水裸基板的表面上。亲水图像显示元件可以形成于柔性基板上，从而显示元件紧密地贴附到柔性基板。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 设备 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种用于显示设备的基板，包括：憎水体；形成于所述憎水体上的亲水体部分；和形成于所述亲水体部分上的亲水薄膜，其中所述亲水薄膜形成了显示元件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
