[发明专利]分色滤光阵列的形成方法有效
| 申请号： | 200610084548.4 | 申请日： | 2006-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101078787A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 吴沂庭;欧富国 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司;联诚光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种分色滤光阵列的形成方法。此方法是先于基底上形成第一分色滤光材料层。于第一分色滤光材料层上形成图案化光致抗蚀剂层后，移除暴露的第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元。于基底与图案化光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。移除图案化光致抗蚀剂层以及图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层，留下多个第二分色滤光单元，其中第一分色滤光单元与第二分色滤光单元组成分色滤光阵列。通过蚀刻与剥离的方法，同时移除图案化光致抗蚀剂层与其上的第二分色滤光材料层，可以大幅简化分色滤光阵列的工艺步骤，以快速完成体积小的多色滤光阵列元件。 | ||
| 搜索关键词： | 分色 滤光 阵列 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种分色滤光阵列的形成方法，该方法包括：于基底上，形成第一分色滤光材料层；于该第一分色滤光材料层上，形成图案化光致抗蚀剂层；移除暴露的该第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元；于该基底与该图案化光致抗蚀剂层上，形成第二分色滤光材料层；以及移除该图案化光致抗蚀剂层以及该图案化光致抗蚀剂层上的该第二分色滤光材料层，将该些第一分色滤光单元之间的该第二分色滤光材料层转换为多个第二分色滤光单元，其中该些第一分色滤光单元与该些第二分色滤光单元组成分色滤光阵列。
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