[发明专利]在光致抗蚀层中形成图像的方法

摘要

一种在光致抗蚀层中形成图像的方法。该方法包括提供基材；在基材上形成光致抗蚀层；在光致抗蚀层上形成污染吸除面层，该污染吸除面层包括一种或多种聚合物和一种或多种阳离子络合剂；透过含有不透明和透明区域的光掩模使光致抗蚀层暴露在光化辐射下，不透明区域遮蔽了光化辐射而透明区域可透过光化辐射，光化辐射改变了光致抗蚀层中受到辐射的区域的化学组成，从而在光致抗蚀层中形成曝光和未曝光区域；以及去除光致抗蚀层的曝光区域或光致抗蚀层的未曝光区域。污染吸除面层包括一种或多种聚合物、一种或多种阳离子络合剂和铸膜溶剂。

主权项

1.一种在光致抗蚀层中形成图像的方法，包括：提供基材；在所述基材上形成所述光致抗蚀层；在所述光致抗蚀层上形成污染吸除面层，所述污染吸除面层包括一种或多种聚合物和一种或多种阳离子络合剂；透过具有不透明和透明区域的光掩模使所述光致抗蚀层暴露在光化辐射下，所述不透明区域遮蔽所述光化辐射而所述透明区域可透过所述光化辐射，所述光化辐射改变了所述光致抗蚀层中受到所述辐射的区域的化学组成，从而在所述光致抗蚀层中形成曝光和未曝光区域；以及去除所述光致抗蚀层的所述曝光区域或所述光致抗蚀层的所述未曝光区域。