[发明专利]微细磁性元件的化学沉积及电化学沉积制造方法和系统有效
| 申请号： | 200610085359.9 | 申请日： | 2006-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN1862725A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 曲宁松;朱荻 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | H01F41/14 | 分类号： | H01F41/14 |
| 代理公司： | 南京苏高专利事务所 | 代理人： | 阙如生 |
| 地址： | 210016江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种微细磁性元件的化学沉积及电化学沉积制造方法和系统，属化学沉积和电铸加工领域。本发明方法及系统的关键之处在于：在现有的微细化学复合沉积或电化学复合沉积制造方法及系统基础上，在掩膜板后方施加了一块外加磁铁，促进了电解液中的强磁性粒子向掩膜板的运动，并且运动到掩膜板表面的强磁性粒子由于磁力的吸引作用很难再脱离掩膜板表面，这样提高了强磁性粒子在复合沉积层中的含量，扩大了复合沉积层的磁能积，提高了微型磁性元件的磁力矩。在输出相同磁力矩的情况下，显著缩小了磁性元件的尺寸，拓展了微型磁性元件的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 微细 磁性 元件 化学 沉积 电化学 制造 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种微细磁性元件的化学沉积制造方法，其特征在于包括以下步骤：(1)、将掩膜板浸入含有强磁性粒子的电解液中；(2)、利用掩膜板上的掩膜限制沉积区域；(3)、在掩膜板后方放置一块磁铁，通过磁力使得电解液中强磁性粒子向掩膜板快速运动，以提高复合沉积层中的强磁性粒子含量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航空航天大学，未经南京航空航天大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610085359.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
