[发明专利]AlGaN基共振增强单色紫外探测器结构和生长方法无效
申请号: | 200610086105.9 | 申请日: | 2006-08-29 |
公开(公告)号: | CN1913178A | 公开(公告)日: | 2007-02-14 |
发明(设计)人: | 谢自力;江若琏;张荣;韩平;修向前;刘斌;李亮;赵红;郑有炓;顾书林;施毅;朱顺明;胡立群 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/18 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 | 代理人: | 汤志武;王鹏翔 |
地址: | 210093*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | AlGaN基共振增强单色紫外探测器结构:在蓝宝石衬底上设有厚度在50-2000nm的低温和高温GaN材料,GaN材料上分别设有15-80nm和15-100nm的5-50个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜为底镜;在上述底镜上设有n-AlxGal-xN/i-GaN/p-AlxGal-xN结构的谐振腔:即设有20-80nm厚的高温n-AlxGal-xN,5-30nm厚的高温i-GaN吸收层,20-80nm厚的高温p-AlxGal-xN,Al组分x≥0.3作为探测器的谐振腔;最后是层厚分别为15-80nm和15-100nm的0-30个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜即顶镜完成RCE紫外探测器结构。 | ||
搜索关键词: | algan 共振 增强 单色 紫外 探测器 结构 生长 方法 | ||
【主权项】:
1、AlGaN基共振增强单色紫外探测器结构:其特征是在蓝宝石衬底上设有厚度在50-2000nm的低温和高温GaN材料,GaN材料上分别设有15-80nm和15-100nm的5-50个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜为底镜;在上述底镜上设有n-AlxGa1-xN/i-GaN/p-AlxGa1-xN结构的谐振腔:即设有20-80nm厚的高温n-AlxGa1-xN,5-30nm厚的高温i-GaN吸收层,20-80nm厚的高温p-AlxGa1-xN,Al组分x≥0.3作为探测器的谐振腔;最后是层厚分别为15-80nm和15-100nm的0-30个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜即顶镜完成RCE紫外探测器结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的