[发明专利]AlGaN基共振增强单色紫外探测器结构和生长方法无效

专利信息
申请号: 200610086105.9 申请日: 2006-08-29
公开(公告)号: CN1913178A 公开(公告)日: 2007-02-14
发明(设计)人: 谢自力;江若琏;张荣;韩平;修向前;刘斌;李亮;赵红;郑有炓;顾书林;施毅;朱顺明;胡立群 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 代理人: 汤志武;王鹏翔
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: AlGaN基共振增强单色紫外探测器结构:在蓝宝石衬底上设有厚度在50-2000nm的低温和高温GaN材料,GaN材料上分别设有15-80nm和15-100nm的5-50个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜为底镜;在上述底镜上设有n-AlxGal-xN/i-GaN/p-AlxGal-xN结构的谐振腔:即设有20-80nm厚的高温n-AlxGal-xN,5-30nm厚的高温i-GaN吸收层,20-80nm厚的高温p-AlxGal-xN,Al组分x≥0.3作为探测器的谐振腔;最后是层厚分别为15-80nm和15-100nm的0-30个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜即顶镜完成RCE紫外探测器结构。
搜索关键词: algan 共振 增强 单色 紫外 探测器 结构 生长 方法
【主权项】:
1、AlGaN基共振增强单色紫外探测器结构:其特征是在蓝宝石衬底上设有厚度在50-2000nm的低温和高温GaN材料,GaN材料上分别设有15-80nm和15-100nm的5-50个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜为底镜;在上述底镜上设有n-AlxGa1-xN/i-GaN/p-AlxGa1-xN结构的谐振腔:即设有20-80nm厚的高温n-AlxGa1-xN,5-30nm厚的高温i-GaN吸收层,20-80nm厚的高温p-AlxGa1-xN,Al组分x≥0.3作为探测器的谐振腔;最后是层厚分别为15-80nm和15-100nm的0-30个周期的AlN/AlGaN多层结构的分布布拉格反射镜即顶镜完成RCE紫外探测器结构。
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