[发明专利]喷涂机和操作喷涂机的方法有效
| 申请号： | 200610087467.X | 申请日： | 2006-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1932072A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 奥立弗·海梅勒 | 申请（专利权）人： | 应用薄膜有限责任与两合公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王昭林;崔华 |
| 地址： | 德国阿尔泽瑙6*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种通过喷射的方法喷涂基片的喷涂机，包含一处理腔和一安装在处理腔内的靶电极(3、3’)，靶电极材料能够从靶电极在朝向基片的方向上喷涂以覆盖基片。所述喷涂机包括，为预喷射靶电极而将喷射方向(S)调节到指向远离基片的方向的装置，以及为通过喷射来自靶电极(3、3’)的物质来喷涂基片而将喷射方向(S)调节到指向基片的方向的装置。例如，排列的改变可以通过围绕平板阴极2的纵轴将所述阴极(2、2’)旋转一个90°或180°的角度来实现。一种相应的方法包括如下步骤：将靶电极(3、3’)插入喷涂腔；排空所述喷涂腔；将喷射方向(S)调节到远离基片平板4的方向；靶电极(3、3’)预喷射；将喷射方向(S)调节到指向基片平板4的方向；以及通过喷射来自靶电极(3、3’)的材料喷涂基片。 | ||
| 搜索关键词： | 喷涂 操作 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过喷射方式喷涂基片(4a、4b、4c)的喷涂机，包含一处理腔室和一安装在处理腔室内的靶电极(3、3’)，目标物质可从所述靶电极(3、3’)朝向所述基片(4a、4b、4c)的方向喷涂从而覆盖所述基片(4a、4b、4c)，其特征在于：所述喷涂机包括，为在第一操作模式下预喷射靶电极而将喷射方向(S)调节第一方向(S1)的装置，以及为在第二操作模式下操作喷涂机而将喷射方向(S)调节到第二方向的装置。
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