[发明专利]等离子线性电极无效
申请号: | 200610087698.0 | 申请日: | 2006-05-31 |
公开(公告)号: | CN1970822A | 公开(公告)日: | 2007-05-30 |
发明(设计)人: | 查尔斯·雷蒙德·琼斯;贾森·詹姆斯·舍林 | 申请(专利权)人: | 黑罗伊斯公司 |
主分类号: | C23C4/00 | 分类号: | C23C4/00;H01J37/08 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 林潮;樊卫民 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供了一种等离子喷涂设备。该等离子喷涂设备包括用于形成等离子体的等离子室区域以及与等离子室区域耦合的喉道区域。喉道区域具有端面和轴向孔。轴向孔是基本沿喉道区域的纵轴形成的,并具有非圆形的横截面形状。端面的轴向孔用于喷射等离子体流。轴向孔可包括基本沿喉道区域的纵轴形成的多条凹槽。轴向孔的横截面形状可以任选地由多片相互重叠的基本圆形凸耳确定。在等离子体流从轴向孔喷射之前,等离子体流线性流动。在等离子体流离开轴向孔之后,等离子体流具有小于大约50°的粒子总体分布角。 | ||
搜索关键词: | 等离子 线性 电极 | ||
【主权项】:
1.一种等离子喷涂设备,其包括:用于形成等离子体的等离子室区域;以及与等离子室区域耦合的喉道区域,该喉道区域具有端面和轴向孔,轴向孔基本沿喉道区域的纵轴方向形成,轴向孔具有非圆形的横截面形状,轴向孔在端面处用于喷射等离子体流。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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