[发明专利]通过施用有机官能聚硅氧烷修饰高分散颗粒表面的方法无效
| 申请号： | 200610090106.0 | 申请日： | 2006-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101092294A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | W·赫讷;D·谢弗 | 申请（专利权）人： | 戈尔德施米特股份公司 |
| 主分类号： | C04B20/10 | 分类号： | C04B20/10;C08K9/06;C09C3/12 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 唐铁军;钟守期 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种修饰高分散颗粒或玻璃纤维表面的方法，这些高分散颗粒的例子有颜料和填料。该方法采用具有从碳原子连接到硅原子上的环氧基和长链烷基的有机聚硅氧烷。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 施用 有机 官能 聚硅氧烷 修饰 分散 颗粒 表面 方法 | ||
【主权项】：
1.一种修饰颗粒表面的方法，该方法包括将有机聚硅氧烷施用于该颗粒，该有机聚硅氧烷具有从碳原子连接到硅原子上的环氧基和长链烷基，并具有以下通式：![]()
其中，R1是一个具有1至4个碳原子的烷基或苯基，但是至少90％的R1基团是CH3基团；R2在50至99％的程度上与R1相同，并且在1至50％的程度上是R3和R4；R3是基团![]()
或其混合物；R4是具有6至30个碳原子的直链或支链烷基；R3基团与R4基团之比在1∶25至10∶1范围内，条件是必须有至少一个R3基团和至少一个R4基团存在于平均分子中；a是一个1至500的数字；b是一个0至10的数字。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戈尔德施米特股份公司，未经戈尔德施米特股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610090106.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
