[发明专利]光耦合器的制造方法有效
| 申请号： | 200610091347.7 | 申请日： | 2006-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN101089665A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | 李名京;庄世任;徐志宏;赵一虎 | 申请（专利权）人： | 亿光电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/24 | 分类号： | G02B6/24 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 台湾省台北县土*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光耦合器的制造方法。首先，将具有接收导线架阵列和发射导线架阵列的导线架料材上的接收导线架阵列切下。将接收导线架阵列翻转后，放置于导线架料材上，使接收导线架阵列上的多个受光组件对准导线架料材上发射导线架阵列的多个发光组件。最后，接合接收导线架阵列和导线架料材。 | ||
| 搜索关键词： | 耦合器 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光耦合器的制造方法，其特征在于，包含：切下一导线架料材上的一接收导线架阵列，其中，所述导线架料材上具有该接收导线架阵列和一发射导线架阵列；翻转接收导线架阵列，并且放置该接收导线架阵列于导线架料材上，使接收导线架阵列的多个受光组件对准该导线架料材上的发射导线架阵列的多个发光组件；以及接合所述接收导线架阵列和导线架料材。
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