[发明专利]蚀刻带及使用该蚀刻带制造液晶显示器的阵列基板的方法有效
| 申请号： | 200610091556.1 | 申请日： | 2006-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN1920664A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 吴载暎;金秀浦 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1333;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种蚀刻带和使用该蚀刻带来制造液晶显示器(LCD)阵列基板的方法。该蚀刻带包括：基片；和蚀刻材料层，位于所述基片上并涂覆有凝胶型蚀刻材料。使用该蚀刻带来制造LCD阵列基板的方法包括以下步骤：在透明绝缘基板上形成栅极、存储电容器的第一电极和选通布线；形成栅极绝缘层、有源层、欧姆接触层、源极和漏极，形成电介质层、所述存储电容器的第二电极，以及数据布线；形成像素电极、选通焊盘电极和数据焊盘电极；形成保护层；以及使用蚀刻带对形成在所述选通焊盘电极上的保护层和形成在所述数据焊盘电极上的保护层进行蚀刻以形成接触孔。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 使用 制造 液晶显示器 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1、一种蚀刻带，包括：基片；和蚀刻材料层，位于所述基片上并涂覆有凝胶型蚀刻材料。
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