[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法

摘要

本发明提供一种灰色调掩模的缺陷校正方法。用于对灰色调掩模的灰色调部的缺陷进行校正，该灰色调掩模具有遮光部(1)、透光部(2)、以及成为形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形(3a、3b)的区域并以通过减少透过该区域的光的透光量来选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚为目的的灰色调部(3)，其特征在于：当上述灰色调部发生黑缺陷时，通过对上述黑缺陷的全部区域或一部分区域或者包含黑缺陷的区域进行蚀刻来减少膜厚，以形成使上述灰色调部可达到与正常的灰色调部同等的灰色调效果的膜厚。由此可比较容易地对灰色调部进行高精度的校正。

主权项

1.一种灰色调掩模的制造方法，该灰色调掩模具有：遮光部、透光部、以及灰色调部，该灰色调部为形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形的区域，并以减少透过该区域的光的透光量从而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚为目的，其特征在于：该灰色调掩模的制造方法包括灰色调掩模的校正工序，该校正工序为，当上述灰色调部发生黑缺陷时，通过聚焦离子束进行蚀刻，使上述黑缺陷的全部区域或一部分区域或者包含黑缺陷的区域的膜厚降低，以形成使上述灰色调部可达到与正常的灰色调部同等的灰色调效果的膜厚。