[发明专利]光学薄膜的制造方法及其制造装置无效
| 申请号： | 200610092578.X | 申请日： | 2006-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN1885069A | 公开（公告）日： | 2006-12-27 |
| 发明（设计）人： | 水岛洋明;芝田祥司 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学薄膜的制造方法，是在使具有连接部分的薄膜连续地通过任意工序时，使该薄膜弯曲以延长输送经路，进行该工序的光学薄膜的制造方法，其特征在于，在所述薄膜的连接部分通过所述工序内的任意位置时，不使薄膜弯曲而以直线上的输送经路使其通过。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制造 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜的制造方法，是在使具有连接部分的薄膜连续地通过任意工序时，使该薄膜弯曲以延长输送经路，进行该工序的光学薄膜的制造方法，其特征在于，在所述薄膜的连接部分通过所述工序内的任意位置时，不使薄膜弯曲而以直线上的输送经路使其通过。
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