[发明专利]光记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 200610092649.6 | 申请日： | 2006-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN1881438A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | 小山理 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种从保护层侧入射光束的类型的光记录介质，其在高轨道密度和优良批量生产率之间达成平衡并且包括：支持衬底；保护层，在光束入射侧提供，具有小于支持衬底的厚度；以及记录层，在支持衬底和保护层之间形成，其中记录层包括凹部分作为记录轨道之间的间隙，并且包括凸部分作为记录轨道，该凸部分具有大于凹部分的厚度，并且被形成为朝向保护层凸起。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光记录介质，包括：支持衬底；保护层，在光束入射侧提供，具有小于支持衬底的厚度；以及记录层，在支持衬底和保护层之间形成，其中记录层包括凹部分作为记录轨道之间的间隙，并且包括凸部分作为记录轨道，该凸部分具有大于凹部分的厚度，并且被形成为朝向保护层凸起。
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