[发明专利]调制功率信号以控制溅射的系统和方法无效
| 申请号： | 200610092769.6 | 申请日： | 2006-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1896296A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·W.·斯托厄尔 | 申请（专利权）人： | 应用膜公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一个包含溅射系统的实施例，包括：真空室；配置成传输基片通过真空室的基片传输系统；用于支承溅射靶的阴极，该阴极至少部分是在真空室内；和配置成提供功率给阴极的功率源，且该功率源配置成输出调制的功率信号。与实施方案有关，功率源可以配置成输出幅度调制的功率信号；频率调制的功率信号；脉冲宽度功率信号；脉冲位置功率信号；脉冲幅度调制的功率信号；或任何其他类型调制的功率信号或能量信号。 | ||
| 搜索关键词： | 调制 功率 信号 控制 溅射 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于溅射操作的系统，该系统包括：真空室；配置成传输基片通过真空室的基片传输系统；用于支承溅射靶的阴极，该阴极至少部分是在真空室内；和配置成提供调制的功率信号给阴极的功率源，从而能实施溅射操作。
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