[发明专利]偏芯量测量方法有效

专利信息
申请号: 200610093016.7 申请日: 2006-06-02
公开(公告)号: CN1877282A 公开(公告)日: 2006-12-13
发明(设计)人: 孙萍 申请(专利权)人: 富士能株式会社
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种偏芯量测量方法,通过求取摄像面上所形成的来自被检面(10A)以及安装面(10B)的各反射像的圆形状轨迹的半径r1以及半径r2之差Δr,并对该Δr乘以实际空间位置中的距离相对成像面上的距离之比所对应的规定系数K,可以求得被检面(10A)正确的偏芯量。即使在设置有被检透镜的基座的旋转轴和被检透镜的光轴之间、或在该基座的旋转轴和将光照射到被检透镜的测量用光学系统的光轴之间等存在偏移的情况下,也能简单且高精度地进行被检透镜面的偏芯量测量。
搜索关键词: 偏芯量 测量方法
【主权项】:
1、一种偏芯量测量方法,在以规定的轴为中心可以旋转的基座上设置被检光学元件,并经由包括规定形状的标志的测量用光学系统,将来自光源的光对该被设置的被检光学元件的被检面进行照射,在将来自该被检面的反射光或透过光引导至成像面上的同时,使设置在该基座上的被检光学元件以规定的旋转轴为中心进行旋转,观察由该反射光或该透过光在该成像面上形成的所述标志的像的移动轨迹,来测量所述被检面的偏芯量,与所述被检面相反侧的面作为安装面,将所述被检光学元件设置在所述基座上;将所述测量用光学系统和所述被检面沿着该测量用光学系统的光轴方向相对移动进行调整,使得来自所述被检面的反射光或透过光在所述成像面上成像,并且,通过使所述基座旋转而使所述被检光学元件以所述旋转轴为中心进行旋转,来测量由该反射光或该透过光在该成像面上所形成的所述标志的像的移动轨迹的半径r1;将所述测量用光学系统和所述安装面沿着该测量用光学系统的光轴方向相对移动进行调整,使得来自所述安装面的反射光或透过光在所述成像面上成像,并且,使设置在所述基座上的所述被检光学元件旋转,来测量由该反射光或该透过光在该成像面上所形成的所述标志像的移动轨迹的半径r2;计算所测量的所述半径r1和所述半径r2之差Δr,并基于所求得的Δr,求取所述被检面的偏芯量。
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