[发明专利]带膜部件的光掩模及膜部件无效
申请号: | 200610093119.3 | 申请日: | 2006-06-21 |
公开(公告)号: | CN1885158A | 公开(公告)日: | 2006-12-27 |
发明(设计)人: | 大田黑竜 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可以解决在伴随着光掩模的大尺寸化而要求膜部件大尺寸化时所产生的问题、并实现了大尺寸的带膜部件的光掩模。所述带膜部件的光掩模中,安装在光掩模(4)表面上的膜部件(1)的膜(3)由具有透光性的刚性材料构成,所述膜(3)的尺寸为表面积大于等于4000cm2。 | ||
搜索关键词: | 部件 光掩模 | ||
【主权项】:
1、带膜部件的光掩模,其具有光掩模和膜部件,所述光掩模具有非主要区域和形成了复制图案的主要区域,所述膜部件包括外框以及被该外框支撑且覆盖所述外框内侧的膜,通过将该膜部件的外框安装在所述光掩模表面的非主要区域,使至少所述光掩模的主要区域被所述膜部件的膜覆盖,其特征在于,所述膜由具有透光性的刚性材料构成,所述膜的尺寸为表面积大于等于4000cm2。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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