[发明专利]磁记录介质、磁记录再现装置及磁记录介质的制造方法无效
| 申请号： | 200610093226.6 | 申请日： | 2006-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1885411A | 公开（公告）日： | 2006-12-27 |
| 发明（设计）人： | 诹访孝裕;服部一博;大川秀一 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/82 | 分类号： | G11B5/82;G11B5/84 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 雷志刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁记录介质以及具有这种磁记录介质的磁记录再现装置，所述磁记录介质的记录层以规定的图案形成，记录要素作为凹凸图案的凸部而形成，该磁记录介质的面记录密度高且难以产生磁头的碰撞，可靠性高。磁记录介质(12)包括记录要素(25)，其作为在基板之上以规定的凹凸图案形成的记录层(24)的凸部而形成；填充材料(28)，其填充到记录要素(25)之间的凹部(26)，表面(32)中的填充材料(28)之上的表面粗糙度大于记录要素(25)之上的部分的表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 再现 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其特征在于，包括：记录要素，其作为在基板上以规定的凹凸图案形成的记录层的凸部而形成；填充材料，其填充在该记录要素之间的凹部，表面中的上述填充材料之上的部分的表面粗糙度大于上述记录要素之上的部分的表面粗糙度。
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