[发明专利]半导体集成电路器件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610093253.3 申请日: 2006-06-23
公开(公告)号: CN1885551A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 宋在浩;朴永薰;金银洙 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/822
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了半导体IC器件及其制备方法。该半导体集成电路器件可以包括:第一导电类型的第一、第二和第三深阱,形成在半导体衬底中并且彼此电隔离;第二导电类型的第一阱和第二阱以及有源像素传感器阵列,分别形成在半导体衬底的顶表面和第一、第二和第三深阱之间,并且分别连接到不同的电源电压;以及第一导电类型的第一、第二和第三保护阱,形成在半导体衬底中并且分别围绕第一阱和第二阱和有源像素传感器阵列的侧表面。
搜索关键词: 半导体 集成电路 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种半导体集成电路器件,包括:第一导电类型的第一、第二和第三深阱,形成在半导体衬底中并且彼此电隔离;第二导电类型的第一阱和第二阱以及有源像素传感器阵列,分别形成在所述半导体衬底的顶表面和所述第一、第二和第三深阱之间,并且分别连接到不同的电源电压;以及所述第一导电类型的第一、第二和第三保护阱,形成在所述半导体衬底中并且分别围绕所述第一阱和第二阱和有源像素传感器阵列的侧表面。
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