[发明专利]半导体集成电路装置及使用它的电子卡有效

专利信息
申请号: 200610093582.8 申请日: 2003-11-28
公开(公告)号: CN1870268A 公开(公告)日: 2006-11-29
发明(设计)人: 泷泽诚 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;G06K19/07
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种半导体集成电路装置,即使集成电路处于没有连接到接地点和电源的状态,也可保护其集成电路不被损坏。该半导体集成电路装置包括:第1导电类型的第1半导体区域(PSUB);具有形成在第1半导体区域(PSUB)中的第2导电类型的源/漏区(D)和在源/漏区间的沟道区上通过栅绝缘膜形成的栅电极(G)的晶体管(N1);电连接到晶体管的漏区(D)的输出端子(PAD);邻接晶体管(N1)的源/漏区(D)且在第1半导体区域(PSUB)中形成的第2导电类型的第2半导体区域(DN),所述第2半导体区域连接到晶体管(N1)的栅电极(G)。
搜索关键词: 半导体 集成电路 装置 使用 电子卡
【主权项】:
1.一种半导体集成电路装置,包括:第1导电类型的半导体区域;形成在所述第1导电类型的半导体区域中,具有连接到输出端子的第2导电类型的源/漏区的第1绝缘栅型场效应晶体管;形成在所述第1导电类型的半导体区域中,具有连接到所述第1绝缘栅型场效应晶体管的栅极上的第2导电类型的源/漏区,驱动所述第1绝缘栅型场效应晶体管的第2绝缘栅型场效应晶体管;以及形成在所述第1导电类型的半导体区域中,具有自身的栅极被短路的源/漏区和连接到所述第1绝缘栅型场效应晶体管的栅极的源/漏区的第3绝缘栅型场效应晶体管;其特征在于,从所述第1绝缘栅型场效应晶体管的所述源/漏区至所述第3绝缘栅型场效应晶体管的连接到所述第1绝缘栅型场效应晶体管的栅极的源/漏区的距离比从所述第1绝缘栅型场效应晶体管的所述源/漏区至所述第2绝缘栅型场效应晶体管的所述源/漏区的距离短。
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