[发明专利]衬底的处理方法及用于该方法的药液无效
| 申请号： | 200610093729.3 | 申请日： | 2004-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN1892444A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 城户秀作 | 申请（专利权）人： | NEC液晶技术株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供处理衬底上形成的有机膜图案的方法，其包括：第一步骤(步骤S11)，去除有机膜图案表面上形成的变质层或沉积层；和第二步骤(步骤S12和S13)，将有机膜图案的至少一部分缩小，或去除所述有机膜图案的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处理 方法 用于 药液 | ||
【主权项】：
1.衬底上形成的有机膜图案的处理方法，所述有机膜图案具有至少两种厚度，所述方法包括：主要步骤：通过使用药液缩小或去除所述有机膜图案的至少一部分。
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