[发明专利]半导体器件以及熔丝的熔断方法无效

专利信息
申请号: 200610094078.X 申请日: 2006-06-22
公开(公告)号: CN1885538A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 河野和史;岩本猛;米津俊明 申请(专利权)人: 株式会社瑞萨科技
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00;H01L23/525
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种具有能够降低熔断电流地经过了最佳化的电流熔断熔丝的半导体器件以及熔丝的熔断方法。熔丝(FS2)中以熔丝部(FP1)的折回方向成为和焊盘(PD)的排列方向平行的方式设置熔丝部(FP1)。在此,焊盘(PD)和熔丝部(FP1)的距离用与焊盘(PD)的熔丝部(FP1)相对一侧的边,和与该边相对的最接近的熔丝部(FP1)的距离定义,熔丝部(FP1)的折回部(RP)和最接近的焊盘(PD)的距离(D1)成为焊盘(PD)和熔丝部(FP1)的距离,焊盘(PD)和熔丝部(FP1)之间隔开大于等于10条熔丝的宽度的宽度。
搜索关键词: 半导体器件 以及 熔断 方法
【主权项】:
1、一种半导体器件,具有半导体衬底和利用电流熔断的熔丝,上述熔丝具有:熔丝布线在与上述半导体衬底的主面平行的平面内折回成为S形状的熔丝部;和分别与上述熔丝部的两端部连接,一边的长度比上述熔丝布线的宽度还大的矩形的2个焊盘,上述2个焊盘各自设置成与上述熔丝部之间隔开大于等于10条的上述熔丝布线的宽度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社瑞萨科技,未经株式会社瑞萨科技许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610094078.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top