[发明专利]非易失性存储器的操作方法无效
申请号: | 200610094108.7 | 申请日: | 2006-06-22 |
公开(公告)号: | CN101093837A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 黄丘宗;陈育志 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L29/788;G11C16/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种非易失性存储器的操作方法,适用于操作一存储单元,此存储单元包括设置于基底中的源极与漏极;设置于源极与漏极之间的基底上的堆叠栅极结构,堆叠栅极结构由下而上包括浮置栅极与控制栅极;以及设置于堆叠栅极结构侧壁的选择栅极,此选择栅极位于堆叠栅极结构与漏极之间的基底上。这个操作方法例如是在进行编程操作时,于控制栅极施加第一正电压,于漏极施加第二正电压,于选择栅极施加第一负电压,于基底施加第二负电压,并且使源极浮置,以利用沟道启始二次电子注入效应,将电子注入浮置栅极中。 | ||
搜索关键词: | 非易失性存储器 操作方法 | ||
【主权项】:
1、一种非易失性存储器的操作方法,适用于操作存储单元,所述存储单元包括设置于基底中的源极与漏极;堆叠栅极结构,设置于所述源极与所述漏极之间的所述基底上,所述堆叠栅极结构由下而上包括浮置栅极与控制栅极;选择栅极,设置于所述堆叠栅极结构与所述漏极之间的所述基底上,且位于所述堆叠栅极结构的侧壁,所述操作方法包括:进行编程操作时,于所述控制栅极施加第一正电压,于所述漏极施加第二正电压,于所述选择栅极施加第一负电压,使所述选择栅极下方的沟道关闭,于所述基底施加第二负电压,并且使所述源极浮置,以利用二次电子注入效应,将电子注入所述浮置栅极中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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