[发明专利]非易失性存储器的操作方法无效

专利信息
申请号: 200610094108.7 申请日: 2006-06-22
公开(公告)号: CN101093837A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 黄丘宗;陈育志 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/788;G11C16/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种非易失性存储器的操作方法,适用于操作一存储单元,此存储单元包括设置于基底中的源极与漏极;设置于源极与漏极之间的基底上的堆叠栅极结构,堆叠栅极结构由下而上包括浮置栅极与控制栅极;以及设置于堆叠栅极结构侧壁的选择栅极,此选择栅极位于堆叠栅极结构与漏极之间的基底上。这个操作方法例如是在进行编程操作时,于控制栅极施加第一正电压,于漏极施加第二正电压,于选择栅极施加第一负电压,于基底施加第二负电压,并且使源极浮置,以利用沟道启始二次电子注入效应,将电子注入浮置栅极中。
搜索关键词: 非易失性存储器 操作方法
【主权项】:
1、一种非易失性存储器的操作方法,适用于操作存储单元,所述存储单元包括设置于基底中的源极与漏极;堆叠栅极结构,设置于所述源极与所述漏极之间的所述基底上,所述堆叠栅极结构由下而上包括浮置栅极与控制栅极;选择栅极,设置于所述堆叠栅极结构与所述漏极之间的所述基底上,且位于所述堆叠栅极结构的侧壁,所述操作方法包括:进行编程操作时,于所述控制栅极施加第一正电压,于所述漏极施加第二正电压,于所述选择栅极施加第一负电压,使所述选择栅极下方的沟道关闭,于所述基底施加第二负电压,并且使所述源极浮置,以利用二次电子注入效应,将电子注入所述浮置栅极中。
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