[发明专利]用于磁记录介质的基底、磁记录介质和磁记录装置无效
| 申请号： | 200610094256.9 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1892827A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 内藤胜之;樱井正敏;喜喜津哲;镰田芳幸;木原尚子;冈正裕 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/65 | 分类号： | G11B5/65;G11B5/70;G11B5/82 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于磁记录介质的基底(11)，包括与记录磁道相应的圆周形凸起和与记录磁道之间的沟槽相应的圆周形凹陷，其中所述基底(11)满足以下条件中的至少一项：(a)所述凹陷表面的表面能小于所述凸起表面的表面能；(b)利用可热分解或可热变形的物质改性所述凹陷的表面；(c)所述凹陷表面的表面粗糙度小于所述凸起表面的表面粗糙度；(d)结晶取向在所述凹陷表面上比在所述凸起表面上更加受干扰；(e)利用引起与磁性材料反应或扩散到所述磁性材料中的物质来改性所述凹陷的表面；以及(f)利用可溶于溶剂中的物质或利用可变形物质改性所述凹陷的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 记录 介质 基底 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁记录介质的基底(11)，其特征在于包括：与记录磁道相应的圆周形凸起和与所述记录磁道之间的沟槽相应的圆周形凹陷；所述基底(11)满足下列条件(a)至(f)中的至少一项：(a)所述凹陷表面的表面能小于所述凸起表面的表面能；(b)利用可热分解或可热变形的物质改性所述凹陷的表面；(c)所述凹陷表面的表面粗糙度小于所述凸起表面的表面粗糙度；(d)结晶取向在所述凹陷表面上比在所述凸起表面上更加受干扰；(e)利用引起与磁性材料反应或扩散到所述磁性材料中的物质来改性所述凹陷的表面；以及(f)利用可溶于溶剂中的物质或利用可变形物质改性所述凹陷的表面。
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