[发明专利]矩阵式显示元件及其制造方法无效
| 申请号： | 200610094479.5 | 申请日： | 1997-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN1882206A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | 木村睦;木口浩史 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁谋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种矩阵式显示元件及其制造方法，其目的在于既维持成本低、生产率高及光学材料的自由度高等特征、又提高布线图形制作精度。为了达到该目的，如果是无源矩阵式显示元件，则利用第一总线布线，或者，如果是有源矩阵式显示元件，则利用扫描线、信号线、公用供电线、象素电极、层间绝缘膜、遮光层等，在显示基板上形成台阶、所希望的疏液性和亲液性的分布、或所希望的电位分布等，然后，利用它们有选择地将液态光学材料涂敷在规定位置。 | ||
| 搜索关键词： | 矩阵 显示 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电致发光装置的制备方法，所述电致发光装置具有第一电极、第二电极和在第一电极和第二电极之间的有机半导体膜，该方法包括以下步骤：在基板预定位置的表面上形成第一电极；形成绝缘层以包围所述预定位置；在所述绝缘层之上形成中间层；将包括有机半导体材料和溶剂的液体溶液置于基板的所述预定位置；在该有机半导体膜之上形成第二电极，与预定位置相比，该中间层膜对该溶液是排斥的。
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