[发明专利]用于10-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置

摘要

本发明公开了一种用于10^－8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置。它的水冷腔(3)内置有软铁(5)和磁钢(4)、下端面与水冷腔密封法兰(17)上端面间置有O形金属密封圈(7)，并经螺丝(22)相固定，进出水管(20，19)分别于软铁(5)和水冷腔密封法兰(17)相焊接，水冷腔密封法兰(17)的下端面与靶支撑座(15)上端面间置有电极绝缘层(13)和两组四只O形密封圈(8，9，10，11)，并经靶支撑座(15)中套装的出水管(19)另一端上的紧固螺母(18)相抵压连接，每组O形密封圈间均置有与抽气管(16)相通的通孔(12，14)，靶支撑座(15)上焊接有安装法兰(21)。它的真空度高达6×10^－8Pa，可实现高质量高纯度金属或非金属薄膜的制备。

主权项

1.一种用于10-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置，包括屏蔽罩(1)内的软铁(5)、磁钢(4)和冷却系统，其特征在于：(a)所说冷却系统含有相连接的水冷腔(3)、水冷腔密封法兰(17)、进水管(20)和出水管(19)，其中，所说水冷腔(3)的腔体内置有软铁(5)和其上设置的磁钢(4)、下端面与水冷腔密封法兰(17)上端面间置有○形金属密封圈(7)，并经螺丝(22)相固定连接，所说水冷腔密封法兰(17)的侧壁上置有通孔(6)，所说通孔(6)的一端与螺丝(22)孔的底端相通、另一端与真空室相通，所说进水管(20)套装于出水管(19)中，且贯穿软铁(5)后与其相焊接连接，所说出水管(19)贯穿水冷腔密封法兰(17)后与其相焊接连接；(b)所说水冷腔密封法兰(17)的下端面与靶支撑座(15)上端面间置有电极绝缘层(13)和两组四只○形密封圈(8，9，10，11)，并经靶支撑座(15)中套装的出水管(19)另一端上的紧固螺母(18)相抵压连接，其中，所说水冷腔密封法兰(17)的下端面与电极绝缘层(13)间置有两只○形密封圈(8，9)，所说电极绝缘层(13)与靶支撑座(15)上端面间置有两只○形密封圈(10，11)，所说两只○形密封圈(8，9)间的电极绝缘层(13)中置有通孔(12)，所说两只○形密封圈(10，11)间的靶支撑座(15)中置有通孔(14)，所说通孔(14)与抽气管(16)相连通；(c)所说靶支撑座(15)上焊接连接有安装法兰(21)。