[发明专利]硅基短波长发光二极管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610098062.6 申请日: 2006-11-29
公开(公告)号: CN1976068A 公开(公告)日: 2007-06-06
发明(设计)人: 马忠元;徐岭;黄信凡;李伟;徐骏;陈坤基;冯端 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 代理人: 何朝旭
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种硅基短波长发光二极管,同时还涉及其制备方法,属于纳米电子和纳米光电子器件材料技术领域。本发明的发光二极管在P+的硅基底上沉积有由相邻层氮组分有明显差异a-SiNx:H薄膜构成的第一组光学微腔;在第一组光学微腔上构筑有所需层数a-Si:H/SiO2多层膜构成的发光有源层;在发光有源层上沉积由相邻层氮组分有明显差异a-SiNx:H薄膜构成的第二组光学微腔;在第二组光学微腔上淀积金薄膜电极,并留有窗口。采用本发明后,可以与当前微电子工艺技术相兼容,能够显现出由于尺寸变化而引起的量子效应,达到调控低维有序体系结构和性能的目的,使非晶硅量子点走出实验室,切实应用于未来的硅基纳米光电子学器件。
搜索关键词: 短波 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种硅基短波长发光二极管,包括P+硅基底材,其特征在于:——在P+硅基底上沉积有相邻层氮组分有差异的所需层数a-SiNx:H多层膜构成的第一组F-P光学微腔;——在第一组F-P光学微腔上淀积有所需层数a-Si:H/SiO2多层膜构成的发光有源层;——发光有源层上沉积有相邻层氮组分有差异的所需层数a-SiNx:H多层膜构成的第二组F-P光学微腔;——在第二组F-P光学微腔上淀积有电极,并留有窗口。
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