[发明专利]光刻胶组合物,薄膜图案形成方法、TFT阵列面板制造方法有效
| 申请号： | 200610098739.6 | 申请日： | 2006-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN1892426A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 朴廷敏;李羲国;周振豪;全祐奭;郑斗喜;金东敏;崔基植 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/012 | 分类号： | G03F7/012;G03F7/004;G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供光刻胶组合物、使用该光刻胶组合物形成薄膜图案的方法、以及使用该光刻胶组合物制造薄膜晶体管阵列面板的方法。在一个方式中，光刻胶组合物包括碱溶性树脂、光敏化合物以及添加剂，用于在通道区域有利地提供均匀的光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 组合 薄膜 图案 形成 方法 tft 阵列 面板 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包括碱溶性树脂；以及具有化学式(I)所示的镇重结构的光敏化合物：![]()
其中，R1和R2为烷基基团，R1和R2可以相同或不同。
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