[发明专利]二次域密码产生方法和二次域密码签名方法有效
| 申请号： | 200610098896.7 | 申请日： | 2006-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN1909451A | 公开（公告）日： | 2007-02-07 |
| 发明（设计）人： | 董晓蕾;曹珍富;郑志彬;位继伟 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学;华为技术有限公司 |
| 主分类号： | H04L9/30 | 分类号： | H04L9/30 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 项京;宋志强 |
| 地址： | 20003*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种二次域密码产生方法，包括：对给定素数q，找到二次域QD1，使其类数h(D1)含有素因子q，而且D1是含有大素数因子的无平方因子数；选定大素数p满足gcd(q，p－(D1/p))=1，(D1/p)表示勒让得符号；得到非最大阶二次域QD，这里D＝D1p2；在QD中建立二次域密码体制，系统只需要公开参数D。 | ||
| 搜索关键词： | 二次域 密码 产生 方法 签名 | ||
【主权项】：
1.一种二次域密码产生方法，包括：对给定的素数q，找到二次域![]()
使其类数h(D1)含有素因子q，而且D1是含有大素数因子的无平方因子数；选定大素数p满足gcd ( q , p - ( D 1 p ) ) = 1 , ![]()
表示勒让得符号；得到非最大阶二次域![]()
这里D＝D1p2；在![]()
中建立二次域密码体制，系统只需要公开参数D。
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