[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效

专利信息
申请号: 200610100045.1 申请日: 2006-06-27
公开(公告)号: CN1892437A 公开(公告)日: 2007-01-10
发明(设计)人: M·H·H·霍克斯;P·A·J·廷纳曼斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 肖春京
地址: 荷兰费*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 具有数据通路的光刻装置,该数据通路将所要求剂量的图案表示转换成控制数据序列,该控制数据序列适合于控制单独可控元件阵列,其中数据通路包括多个数据操作设备和计算负荷控制器,该计算负荷控制器用于平衡数据操作设备之间的计算负荷。一种使用光刻装置的元件的器件制造方法和使用该方法制造的平板显示器和集成电路器件。
搜索关键词: 光刻 装置 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种光刻装置,包括:调制辐射光束的单独可控元件阵列;数据处理线,用于将所要求剂量图案的第一数据表示转换成控制数据序列,所述控制数据序列用于控制所述单独可控元件阵列,以便大体上在基底上形成所述所要求的剂量图案;所述数据处理线包括:多个数据操作设备;和计算负荷控制器,其配置成将所述第一数据表示划分成多个数据包,每个数据包相应于所述所要求剂量图案的一组子区域之一,并将每个所述数据包发送给所述数据操作设备中的一个,其中所述计算负荷控制器布置成选择数据包以发送到每个数据操作设备,从而平衡数据操作设备之间的总计算负荷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610100045.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top