[发明专利]溅射靶的制造方法有效
| 申请号： | 200610100094.5 | 申请日： | 2006-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1891662A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 高桥诚一郎;渡边弘 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C04B35/453;C04B35/64;C23C14/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可提高靶寿命并可得到高密度的溅射靶的溅射靶的制造方法。在烧成由含有氧化铟粉末及氧化锡粉末的混合粉末构成的原料粉末制造溅射靶时，至少在1100℃～1300℃预烧氧化铟粉末而作成原料的混合粉末，把该混合粉末以比所述预烧温度高150℃以上的温度进行烧结。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.溅射靶的制造方法，其特征在于，在烧成混合含有氧化铟粉末及氧化锡粉末的原料制造溅射靶时，至少在1100℃～1300℃预烧氧化铟粉末作为原料的混合粉末，把该混合粉末以比所述预烧温度高150℃以上的温度进行烧成。
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