[发明专利]聚焦确定法，器件制造法和掩模有效
| 申请号： | 200610100136.5 | 申请日： | 2006-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1892440A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | M·范德沙尔;A·J·登博夫;M·杜萨;A·G·M·基尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 器件制造法使用的一个或多个聚焦设置的确定可通过印制多个具有不同聚焦设置的目标标记，并使用散射计，如离线的散射计，测量作为聚焦指示的目标标记的性质。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 确定 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种确定一个或多个适宜聚焦设置的方法，聚焦设置用于使用光刻装置的器件制造法，光刻装置设置成可传输图案形成机构的图案到基片，所述方法包括：使用光刻装置印制多个目标标记于基片，印制的不同目标标记有不同的聚焦设置；使用角度分辨散射计测量目标标记的性质；和根据测量的目标标记的性质，确定一个或多个聚焦设置。
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